任何輪廓或組件都可以標記為遮罩。標記為遮罩的元素從其圖層元素順序中位於它們之前的幾何體中減去。標誌位於路徑或組件本身,而不是圖層上,因此單個圖層——母版、背景或輔助——可以自由混合遮罩和非遮罩元素。
遮罩是一種設計工具。字體格式——TrueType、OpenType、CFF2、UFO——沒有遮罩標誌的表示,因此在導出字體時,遮罩總是被展平為普通幾何體。在字形編輯器內、在 FontCreator 項目文件中以及在 .glyphs 格式中,標誌被保留並以非破壞性方式應用,因此原始遮罩和非遮罩幾何體按照您創作的方式被保留。
從選定輪廓或組件的右鍵上下文菜單切換遮罩標誌。標記為遮罩的元素在字形編輯器中使用獨特的輪廓繪製,因此其角色一目瞭然。
減法遵循元素順序。遮罩路徑僅從列表中出現在它之前的非遮罩元素中減去。使用置於頂層或置於底層重新排序元素會更改從哪些路徑中減去。
連續標記為遮罩的元素作為單個組減去。這就是複合遮罩——例如由外路徑和內路徑組成的環——產生一個孔而不是兩個單獨的切口的原因。將複合遮罩的各部分在元素列表中彼此相鄰放置,並將兩者都標記為遮罩。
整個組件可以標記為遮罩,在這種情況下,引用字形的分解形狀從先前的幾何體中減去。引用字形內部的每路徑遮罩標誌在組件分解時也會保留——手動或在導出時自動——因此可以使用內部遮罩路徑設計一次字形,然後作為組件在其他字形中重用,而不會丟失減法。
遮罩可能導致圖層不兼容。在導出時遮罩展平後,如果遮罩在母版之間的形狀不同,母版可能會以不同的點數結束——這與重疊移除相同的警告。這在設計可變字體時特別重要:在發佈之前檢查母版兼容性。
帶遮罩分解將遮罩減法永久烘焙到活動圖層的創作幾何體中。應用遮罩,然後從倖存元素中移除遮罩標誌——留下不再依賴減法的普通輪廓幾何體。
字體導出器會自動應用減法,因此僅當創作幾何體本身應反映減法後形狀時才需要此命令——例如,為了簡化字形以便移交給不理解遮罩標誌的工具。
可從主菜單中的字形 → 分解 → 遮罩以及字形編輯器中遮罩切換附近的右鍵上下文菜單獲得。當活動圖層包含至少一個標記為遮罩的元素時啓用。
英文原文:https://www.high-logic.com/fontcreator/manual16/fc_mask.html